Cristalización y morfología superficial de películas delgadas de Ag/SiO2 tratadas térmicamente

Autores/as

  • R. M. Calle Facultad de Ciencias Físicas, Universidad Nacional Mayor de San Marcos, Lima, Perú
  • L. De Los Santos Cavendish Laboratory, Department of Physics, University of Cambridge, J.J. Thomson Av., Cambridge CB3 0HE, United Kingdom
  • A. Bustamante Facultad de Ciencias Físicas, Universidad Nacional Mayor de San Marcos, Lima, Perú
  • J. Angulo Facultad de Ciencias Físicas, Universidad Nacional Mayor de San Marcos, Lima, Perú
  • C. H. W. Barnes Cavendish Laboratory, Department of Physics, University of Cambridge, J.J. Thomson Av., Cambridge CB3 0HE, United Kingdom

DOI:

https://doi.org/10.15381/rif.v18i2.11580

Palabras clave:

Películas delgadas de Ag, cristalización térmica, recocido térmico

Resumen

En este trabajo se estudia las propiedades estructurales y morfológicas de las películas delgadas de plata de 60 nm de espesor, depositadas sobre sustrato de SiO2 y tratadas térmicamente a distintas temperaturas desde 250 hasta 1000℃. Se ha encontrado que al incrementar la temperatura de recocido, la película de plata se cristaliza en la dirección [111] aumentando la rugosidad superficial y formando islas. Sin embargo, entre la temperatura de recocido de 800 a 900°C se observa un cambio en la orientación preferencial a la dirección [200]. Se discute este cambio de orientación mediante los procesos de difusión.

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Publicado

2015-12-15

Número

Sección

Artículo

Cómo citar

Cristalización y morfología superficial de películas delgadas de Ag/SiO2 tratadas térmicamente. (2015). Revista De Investigación De Física, 18(2). https://doi.org/10.15381/rif.v18i2.11580