NITROGEN INCORPORATION INTO HARD FLUORINATED CARBON FILMS NANOSCALE FRICTION AND STRUCTURAL MODIFICATIONS
DOI:
https://doi.org/10.15381/rif.v8i02.8549Palabras clave:
Espectroscopia Rama, espectroscopia fotoelectrònica inducida por rayos X, películas nanoescalaresResumen
La incorporación del nitrógeno en películas duras de carbono fluorado, depositadas por la descomposición de un plasma de radio frecuencia en un ambiente de CH4-CF4-N2, fue estudiada. Las características estructurales y químicas de las peliculas fueron realizadas por espectroscopia Raman, espectroscopia fotoelectronica inducida por rayos X (XPS)y análisis por haz de iones. Estos resultados demuestran que la incorporación de nitrógeno ocurre a costas del contenido de carbono en las películas y que da lugar a un aumento del tamaño y del numero de los dominios gráficos. Los espectros de XPS demuestran la existencia de nitrógeno incorporado, ambos en los anillos aromáticos y como radicales terminales. El comportamiento de la fricción de las películas fue investigado por microscopia de fuerzas atómicas. La importancia de la incorporación de nitrógeno para la hidrofobicidad superficial y los procesos de fricción que ocurren por fuerte contacto a escala nanoscòpica, fue verificada.Descargas
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Derechos de autor 2005 C. M. Sanchez T., M. E. H. Maia da Costa, F. L. Freire Jr
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