Distribución de perfiles en relación con el ancho solitónico para nanocapa de grafeno en régimen de alta potencia

Autores/as

  • D. André Orna T. Universidad Nacional Mayor de San Marcos. Lima, Perú https://orcid.org/0000-0002-1381-3217
  • Rubén Bruna Universidad Nacional Federico Villarreal
  • Jesús Flores S. Universidad Nacional Mayor de San Marcos. Lima, Perú

DOI:

https://doi.org/10.15381/rif.v24i2.20724

Palabras clave:

Solitón brillante, grafeno, ancho de solitón, susceptibilidad no lineal

Resumen

El presente es un estudio acerca de la propagación de solitones brillantes NLS en un régimen de alta potencia en una lámina de grafeno trabajado computacionalmente, donde la variación de la fracción de energía fluyente dentro de la lámina provoca variación en los picos solitónicos propagantes (se trabajó para fracciones de energía de 0.6, 0.8 y 1.0), los cuales al ser comparados en unidad relativa, permiten confirmar que estos últimos solo dependen de la longitud del solitón. Las densidades solitónicas resultantes son notablemente separadas para las fracciones elegidas en longitudes sublonguitudinales respecto al pulso de entrada, finalmente se propone la relación $\kappa=\rho_{i}/\rho_{j}$ que muestra la magnitud entre solitones i j cercanos o próximos a 2 μm y una aplicación para caracterizar el ancho de películas con susceptibilidad no lineal.

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Publicado

2021-09-02

Cómo citar

Orna T., D. A., Bruna, R., & Flores S., J. (2021). Distribución de perfiles en relación con el ancho solitónico para nanocapa de grafeno en régimen de alta potencia. Revista De Investigación De Física, 24(2), 49–53. https://doi.org/10.15381/rif.v24i2.20724

Número

Sección

Artículo