NITROGEN INCORPORATION INTO HARD FLUORINATED CARBON FILMS NANOSCALE FRICTION AND STRUCTURAL MODIFICATIONS

Authors

  • C. M. Sanchez T. Departamento de Física, Pontificia Universida de Católica do Rio de Janeiro. Cx. Postal 380, Rio de Janeiro, RJ. 22453-970, Brazil
  • M. E. H. Maia da Costa Departamento de Física, Pontificia Universida de Católica do Rio de Janeiro. Cx. Postal 380, Rio de Janeiro, RJ. 22453-970, Brazil
  • F. L. Freire Jr Departamento de Física, Pontificia Universida de Católica do Rio de Janeiro. Cx. Postal 380, Rio de Janeiro, RJ. 22453-970, Brazil

DOI:

https://doi.org/10.15381/rif.v8i02.8549

Keywords:

Espectroscopia Rama, espectroscopia fotoelectrònica inducida por rayos X, películas nanoescalares

Abstract

La incorporación del nitrógeno en películas duras de carbono fluorado, depositadas por la descomposición de un plasma de radio frecuencia en un ambiente de CH4-CF4-N2, fue estudiada. Las características estructurales y químicas de las peliculas fueron realizadas por espectroscopia Raman, espectroscopia fotoelectronica inducida por rayos X (XPS)y análisis por haz de iones. Estos resultados demuestran que la incorporación de nitrógeno ocurre a costas del contenido de carbono en las películas y que da lugar a un aumento del tamaño y del numero de los dominios gráficos. Los espectros de XPS demuestran la existencia de nitrógeno incorporado, ambos en los anillos aromáticos y como radicales terminales. El comportamiento de la fricción de las películas fue investigado por microscopia de fuerzas atómicas. La importancia de la incorporación de nitrógeno para la hidrofobicidad superficial y los procesos de fricción que ocurren por fuerte contacto a escala nanoscòpica, fue verificada.

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Published

2005-12-30

Issue

Vol. 8 No. 02 (2005)

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Copyright (c) 2005 C. M. Sanchez T., M. E. H. Maia da Costa, F. L. Freire Jr

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How to Cite

NITROGEN INCORPORATION INTO HARD FLUORINATED CARBON FILMS NANOSCALE FRICTION AND STRUCTURAL MODIFICATIONS. (2005). Revista De Investigación De Física, 8(02), 14-18. https://doi.org/10.15381/rif.v8i02.8549