EVALUACIÓN DE TENSIONES RESID.UALES EN DISCOS COMPACTOS MEDIANTE EL MÉTODO FOTOELÁSTICO

Authors

  • M. Llosa D. Facultad de Ciencias Físicas, Universidad Nacional Mayor de San Marcos Ap. Postal 14-0149, Lima 14, Perú.
  • J. Gómez B. Facultad de Ciencias Físicas, Universidad Nacional Mayor de San Marcos Ap. Postal 14-0149, Lima 14, Perú. Facultad de Ciencias, Universidad Nacional de Ingeniería, Lima 25, Perú.
  • M. Zapata B. Facultad de Ciencias, Universidad Nacional de Ingeniería, Lima 25, Perú.
  • C. Aparicio Q. Facultad de Ciencias Naturales y Matemática, Universidad Nacional Federico Villareal, Lima 21, Perú. Facultad de Ciencias, Universidad Nacional de Ingeniería, Lima 25, Perú.
  • D. Guillena Facultad de Ciencias Físicas, Universidad Nacional Mayor de San Marcos Ap. Postal 14-0149, Lima 14, Perú.
  • L. Zapata A. Facultad de Ciencias Físicas, Universidad Nacional Mayor de San Marcos Ap. Postal 14-0149, Lima 14, Perú.

DOI:

https://doi.org/10.15381/rif.v8i01.8840

Keywords:

Photo elasticity, tension analysis, birefringence.

Abstract

The residual tension and the molecular orientation in a material provide important information about its behavior. The presence or absence of residual tension determines the quality of the plastics used for the storage of information and others. In this work, a non destructive method was implemented for the evaluation of compact disks, as well as the storage of information in the same ones by means optic analysis of residual tension. A quantitative analysis of the tension state in different marks of CD was also made.

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Published

2005-07-15

Issue

Section

Article

How to Cite

EVALUACIÓN DE TENSIONES RESID.UALES EN DISCOS COMPACTOS MEDIANTE EL MÉTODO FOTOELÁSTICO. (2005). Revista De Investigación De Física, 8(01), 42-45. https://doi.org/10.15381/rif.v8i01.8840